掃描電化學(xué)顯微鏡系統(tǒng)、掃描開爾文探針系統(tǒng)、機(jī)械式高溫持久蠕變?cè)囼?yàn)機(jī)、50KN微機(jī)控制高溫電子萬能試驗(yàn)機(jī)招標(biāo)公告
招標(biāo)信息 | 2022-12-16丨 江蘇
電化學(xué)顯微鏡系統(tǒng)、掃描開爾文探針系統(tǒng) 、機(jī)械式高溫持久蠕變?cè)囼?yàn)機(jī)、50KN微機(jī)控制高溫電子萬能試驗(yàn)機(jī)采購項(xiàng)目（HW2022055）自行采購邀請(qǐng)書時(shí)間：2022-12-16來源：作者：攝影： 編輯：黃慧上傳：南京工業(yè)大學(xué)貨物自行采購邀請(qǐng)書歡迎供應(yīng)商參與我校貨物（指儀器設(shè)備、軟件、家具）自行采購項(xiàng)目，請(qǐng) 查看詳情>>
掃描電化學(xué)顯微鏡系統(tǒng)、掃描開爾文探針系統(tǒng)、機(jī)械式高溫持久蠕變?cè)囼?yàn)機(jī)、50KN微機(jī)控制高溫電子萬能試驗(yàn)…招標(biāo)公告
招標(biāo)信息 | 2022-12-16丨 江蘇
電化學(xué)顯微鏡系統(tǒng)、掃描開爾文探針系統(tǒng) 、機(jī)械式高溫持久蠕變?cè)囼?yàn)機(jī)、50KN微機(jī)控制高溫電子萬能試驗(yàn)機(jī)三、采購方式：集體談判四、采購內(nèi)容（一）貨物名稱、數(shù)量、預(yù)算分包號(hào)貨物名稱數(shù)量預(yù)算（萬元）備注一掃描電化學(xué)顯微鏡系統(tǒng)139.8允許進(jìn)口二掃描開爾文探針系統(tǒng)127允許進(jìn)口三機(jī)械式高溫持久蠕變?cè)囼?yàn)機(jī)348 查看詳情>>
鏡；靜電力顯微鏡；掃描開爾文顯微鏡；力曲線模式；納米刻蝕；納米操縱；3密閉式電化學(xué)液池密閉式電化學(xué)液池模塊：能夠構(gòu)造密閉的電化學(xué)溶液環(huán)境進(jìn)行表面形貌以及雙電子層等測(cè)試。4壓電力顯微鏡模式★壓電力顯微鏡模式：系統(tǒng)具有DART-PFM模式和Switching spectroscopy PFM模式。最高測(cè) 查看詳情>>
FM)3.1.10掃描開爾文顯微鏡(Kelvin probe force microscopy,含AM-KPFM和FM-KPFM)3.1.11掃描電容顯微鏡(Scanning Capacitance Microscopy, SCM)3.1.12力曲線測(cè)試（Force curve）3.1.13力陣列測(cè) 查看詳情>>
FM)3.1.10掃描開爾文顯微鏡(Kelvin probe force microscopy,含AM-KPFM和FM-KPFM)3.1.11掃描電容顯微鏡(Scanning Capacitance Microscopy, SCM)3.1.12力曲線測(cè)試（Force curve）3.1.13力陣列測(cè) 查看詳情>>
FM)3.1.10掃描開爾文顯微鏡(Kelvin probe force microscopy,含AM-KPFM和FM-KPFM)3.1.11掃描電容顯微鏡(Scanning Capacitance Microscopy, SCM)3.1.12力曲線測(cè)試（Force curve）3.1.13力陣列測(cè) 查看詳情>>
EFM)；1.10掃描開爾文顯微鏡(Kelvin probe force microscopy)；1.11力曲線模式（Force curve）；1.12力陣列測(cè)量(Force Volume Measurement)；1.13納米刻蝕(Nanolithography)；1.14納米操縱(Nanoman 查看詳情>>
FM) ；1.10掃描開爾文顯微鏡(Kelvin probe force microscopy) ；1.11力曲線模式（Force curve）；1.12力陣列測(cè)量(Force Volume Measurement) ；1.13納米刻蝕(Nanolithography)；1.14納米操縱(Nanom 查看詳情>>
鏡,靜電力顯微鏡,掃描開爾文顯微鏡，力曲線模式，力陣列測(cè)量，納米刻蝕，納米操縱，高次諧波成像模式，雙頻共振追蹤模式。2.掃描器*2.1 X,Y方向的掃描范圍不低于30μm，Z方向不低于5μm；掃描器閉環(huán)噪音：X,Y軸閉環(huán)噪音<60pm（Adev,1Hz到1KHz帶寬），能夠在利用閉環(huán)掃描軸實(shí)現(xiàn) 查看詳情>>
鏡,靜電力顯微鏡,掃描開爾文顯微鏡，力曲線模式，力陣列測(cè)量，納米刻蝕，納米操縱，高次諧波成像模式，雙頻共振追蹤模式。2.掃描器*2.1 X,Y方向的掃描范圍不低于30μm，Z方向不低于5μm；掃描器閉環(huán)噪音：X,Y軸閉環(huán)噪音<60pm（Adev,1Hz到1KHz帶寬），能夠在利用閉環(huán)掃描軸實(shí)現(xiàn) 查看詳情>>
掃描電容成像/ 掃描開爾文探針顯微鏡/ 擴(kuò)展電阻成像/ 壓電響應(yīng)力顯微鏡/掃描隧道顯微鏡/掃描隧道譜；
2、液體模式成像功能需包括：接觸式AFM/ 側(cè)向力模式/ 振動(dòng)模式(接觸+非接觸模式AFM)/ 相位成像模式/ 力調(diào)制模式(粘彈性)/ 粘附力成像/AFM 刻蝕-力/電化學(xué)原子力顯微鏡 查看詳情>>
蘇州市職業(yè)大學(xué)（蘇州學(xué)院籌）關(guān)于薄膜太陽能電池及光伏逆變發(fā)電實(shí)驗(yàn)室項(xiàng)目的招標(biāo)公告
招標(biāo)信息 | 2019-09-29丨 江蘇
M) 1.10 掃描開爾文顯微鏡(Kelvin probe force microscopy) 1.11 力曲線模式（Force curve） 1.12 力陣列測(cè)量(Force Volume Measurement) 1.13 納米刻蝕(Nanolithography) 1.14 納米 查看詳情>>
SZTMD2019-G-070蘇州市職業(yè)大學(xué)（蘇州學(xué)院籌）關(guān)于薄膜太陽能電池及光伏逆變發(fā)電實(shí)驗(yàn)室項(xiàng)目的招標(biāo)公告
招標(biāo)信息 | 2019-08-19丨 江蘇
EFM)1.10 掃描開爾文顯微鏡(Kelvin probe force microscopy)1.11 力曲線模式（Force curve）1.12 力陣列測(cè)量(Force Volume Measurement)1.13 納米刻蝕(Nanolithography)1.14 納米操縱(Nanoman 查看詳情>>
蘇州市職業(yè)大學(xué)（蘇州學(xué)院籌）關(guān)于薄膜太陽能電池及光伏逆變發(fā)電實(shí)驗(yàn)室項(xiàng)目的招標(biāo)公告
招標(biāo)信息 | 2019-08-19丨 江蘇
1.10 掃描開爾文顯微鏡(Kelvin probe force microscopy) 1.11 力曲線模式（Force curve） 1.12 力陣列測(cè)量(Force Volume Measurement) 1.13 納米刻蝕(Nanolithography) 1.1 查看詳情>>
M、靜電力顯微鏡、掃描開爾文顯微鏡力曲線模式、力陣列測(cè)量、納米刻蝕、納米操縱、壓電響應(yīng)刻蝕、高次諧波成像模式、雙頻共振追蹤、雙頻共振追蹤壓電力顯微鏡、MacroBuilder智能編程模式、GetReal智能探針校準(zhǔn)模式。2、主要技術(shù)參數(shù)：（1）掃描器：①掃描器須是X,Y,Z三軸分離的掃描器，X,Y, 查看詳情>>
M、靜電力顯微鏡、掃描開爾文顯微鏡、力曲線模式、力陣列測(cè)量、快速PFM模式、STM掃描隧道顯微鏡、導(dǎo)電AFM模式（電流mapping）、納米刻蝕、納米操縱、壓電響應(yīng)刻蝕、高次諧波成像模式、雙頻共振追蹤等。要求：不同測(cè)量模式的轉(zhuǎn)換須具備便利性和可操作性，進(jìn)行轉(zhuǎn)換時(shí)不需要更換、添減系統(tǒng)硬件和軟件。2、掃 查看詳情>>
M、靜電力顯微鏡、掃描開爾文顯微鏡、力曲線模式、力陣列測(cè)量、快速PFM模式、導(dǎo)電AFM模式、納米刻蝕、納米操縱、壓電響應(yīng)刻蝕、高次諧波成像模式、雙頻共振追蹤等。要求：不同測(cè)量模式的轉(zhuǎn)換須具備便利性和可操作性，進(jìn)行轉(zhuǎn)換時(shí)不需要更換、添減系統(tǒng)硬件和軟件。（三）技術(shù)指標(biāo)1、掃描器(1)適用于大、小量程的多 查看詳情>>
、靜電力顯微鏡、掃描開爾文顯微鏡、力曲線模式、力陣列測(cè)量、快速 PFM 模式、 STM 掃描隧道顯微鏡、導(dǎo)電 AFM 模式（電流 mapping ）、納米刻蝕、納米操縱、壓電響應(yīng)刻蝕、高次諧波成像模式、雙頻共振追蹤等。要求：不同測(cè)量模式的轉(zhuǎn)換須具備便利性和可操作性，進(jìn)行轉(zhuǎn)換時(shí)不需要更換、添減系統(tǒng)硬 查看詳情>>
、靜電力顯微鏡、掃描開爾文顯微鏡、力曲線模式、力陣列測(cè)量、快速 PFM 模式、導(dǎo)電 AFM 模式、納米刻蝕、納米操縱、壓電響應(yīng)刻蝕、高次諧波成像模式、雙頻共振追蹤等。要求：不同測(cè)量模式的轉(zhuǎn)換須具備便利性和可操作性，進(jìn)行轉(zhuǎn)換時(shí)不需要更換、添減系統(tǒng)硬件和軟件。（三）技術(shù)指標(biāo)1 、掃描器(1) 適用于大 查看詳情>>
模式，磁力顯微鏡，掃描開爾文顯微鏡，掃描電容顯微鏡，靜電力顯微鏡1. 2 STM工作模式：導(dǎo)電單元電流范圍 100 fA~10 μA，電壓范圍-10 V~ 7 V2. 測(cè)量頭*2.1獨(dú)立反饋激光光路，反饋激光≥1300 nm，允許可見及近紅外區(qū)域的拉曼，熒光或近場(chǎng)成像測(cè)量2.2可通過軟件實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)針 查看詳情>>
模式，磁力顯微鏡，掃描開爾文顯微鏡，掃描電容顯微鏡，靜電力顯微鏡1. 2 STM工作模式：導(dǎo)電單元電流范圍 100 fA~10 μA，電壓范圍-10 V~ 7 V2. 測(cè)量頭*2.1獨(dú)立反饋激光光路，反饋激光≥1300 nm，允許可見及近紅外區(qū)域的拉曼，熒光或近場(chǎng)成像測(cè)量2.2可通過軟件實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)針 查看詳情>>
M、靜電力顯微鏡、掃描開爾文顯微鏡、力曲線模式、力陣列測(cè)量、快速PFM模式、導(dǎo)電AFM模式、納米刻蝕、納米操縱、壓電響應(yīng)刻蝕、高次諧波成像模式、雙頻共振追蹤等。要求：不同測(cè)量模式的轉(zhuǎn)換須具備便利性和可操作性，進(jìn)行轉(zhuǎn)換時(shí)不需要更換、添減系統(tǒng)硬件和軟件。（三）技術(shù)指標(biāo)1、掃描器(1) 適用于大、小量程的 查看詳情>>
模式，磁力顯微鏡，掃描開爾文顯微鏡，掃描電容顯微鏡，靜電力顯微鏡1. 2 STM工作模式：導(dǎo)電單元電流范圍 100 fA~10 μA，電壓范圍-10 V~ 7 V2. 測(cè)量頭*2.1獨(dú)立反饋激光光路，反饋激光≥1300 nm，允許可見及近紅外區(qū)域的拉曼，熒光或近場(chǎng)成像測(cè)量2.2可通過軟件實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)針 查看詳情>>
